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タテホの水酸化マグネシウム PUREMAG® FNM-HSは、特別な精製技術を駆使して99.9%以上の高純度を達成いたしました。
不純物をほとんど含まないので、高純度が要求される各種添加剤や電子材料、蛍光体原料、触媒材料など様々な用途に幅広く使用できます。
1. 高純度
水酸化マグネシウム純度99.9%以上の高純度で、不純物はほとんど含みません。
市販されている水酸化マグネシウムの中で最も高純度です。
2. 高分散性
一次粒子はサブミクロンの単分散粒子であり、分散性に非常に優れています。
| メディアン50%粒径 (10-6m) |
0.75 |
|---|---|
| 比表面積 (103m2/kg) | 4.8 |
・粒径:レーザー回折散乱法
・比表面積:ガス吸着法
※代表値であり保証値ではありません。
| Mg(OH)2 (%) | 99.95 |
|---|---|
| Si (ppm) | 2 |
| Al (ppm) | <1 |
| Ca (ppm) | 5 |
| Fe (ppm) | 1 |
| Cr (ppm) | <1 |
| Mn (ppm) | <1 |
| Ni (ppm) | <1 |
| V (ppm) | <1 |
| B (ppm) | <1 |
| Zr (ppm) | <1 |
| Na (ppm) | 10 |
| Cl (ppm) | 180 |
| K (ppm) | <1 |
| Zn (ppm) | <1 |
・化学成分:ICP発光分析法、分光光度計
※代表値であり保証値ではありません。
取扱いやすい数十ミクロンの二次粒子(A)に造粒加工してご提供いたしますが、溶媒中で攪拌することで容易にサブミクロンサイズの一次粒子(B)に分散し、高純度高分散水酸化マグネシウム微粒子としてご利用いただけます。
粒度分布(代表値)
測定方法:レーザー回析散乱法[分散なし]
※代表値であり保証値ではありません。
SEM写真
粒度分布(代表値)
測定方法:レーザー回折散乱法[強分散]
※代表値であり保証値ではありません。
SEM写真
